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Dry Etching Equipment Market Size, Share, Growth, and Industry Analysis, By Type (Inductively Coupled Plasma (ICP), Capacitive Coupled Plasma (CCP), Reactive Ion Etching (RIE), Deep Reactive Ion Etching (DRIE) and Others), By Downstream Industry (Logic and Memory, MEMS, Power Device and Others), and Regional Forecast to 2032

Última Atualização: 06 December 2025
Ano Base: 2024
Dados Históricos: 2019-2022
Número de Páginas: 109
  • O mercado global de equipamentos de gravação seco deve atingir 2323,31 mn até 2032.

  • Qual CAGR é o mercado de equipamentos de gravura seco que deve exibir até 2032?

    O mercado de equipamentos de gravação seco deve exibir um CAGR de 1,01% até 2032.

  • Quais são os fatores determinantes do mercado de equipamentos de gravura seca?

    Os fatores determinantes do mercado de equipamentos de gravação a seco são miniaturização de dispositivos semicondutores e a crescente demanda por eletrônicos de consumo.

  • Quais são os principais segmentos de mercado de equipamentos de gravata seca?

    A segmentação principal do mercado, que inclui, com base no tipo, o mercado de equipamentos de gravura seco é indutivamente plasma acoplado (ICP), plasma acoplado capacitivo (CCP), gravura reativa de íons (RIE), gravura de íons reativos profundos (Drie) e outros. Com base na análise da indústria, o mercado de equipamentos de gravação a seco é classificado como lógica e memória, MEMS, dispositivo de energia e outros.