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반도체 장비용 진공 게이지 시장 규모, 점유율, 성장 및 산업 분석, 유형별(커패시턴스 다이어프램 게이지, 이온화 ​​진공 게이지, 피라니 진공 게이지 등), 애플리케이션별(증착, 에칭 및 세정, 이온 주입 등) 및 2035년까지 지역 예측

최종 업데이트: 07 February 2026
기준 연도: 2025
과거 데이터: 2020-2023
페이지 수: 107
  • 반도체 장비 시장용 진공 게이지 규모는 2035년까지 1억 6,941만 달러에 이를 것으로 예상됩니다.

  • 2035년까지 반도체 장비 시장용 진공 게이지의 CAGR은 얼마나 됩니까?

    반도체 장비 시장용 진공게이지 시장은 2035년까지 연평균 성장률(CAGR) 9.2%로 성장할 것으로 예상됩니다.

  • 반도체 장비 시장용 진공 게이지의 추진 요인은 무엇입니까?

    반도체 제조 성장과 첨단 장치에 대한 수요로 시장이 성장하고 진공 측정 및 자동화 기술이 발전하여 시장이 확대됩니다.

  • 2025년 반도체 장비 시장용 진공 게이지의 가치는 무엇이었나요?

    2025년 반도체 장비용 진공 게이지 시장 가치는 1억 1,914만 달러였습니다.

  • 반도체 장비용 진공 게이지 업계의 주요 업체는 누구입니까?

    이 분야의 주요 업체로는 MKS(Granville-Phillips), Inficon, Canon ANELVA, Atlas Copco(Leybold 및 Edwards), Pfeiffer Vacuum GmbH, Agilent, ULVAC, SATO VAC INC, Azbil Corporation, Arun Microelectronics, Teledyne Hastings Instruments, Kurt J. Lesker, Setra Systems, EBARA, ATOVAC, Reborns가 있습니다.

  • 반도체 장비용 진공 게이지 시장은 어느 지역에서 주도되고 있나요?

    현재 반도체 장비 시장용 진공 게이지 시장은 북미 지역이 주도하고 있습니다.

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